8月28日，全球新型显示产业高度瞩目的年度盛会——DIC EXPO 2026显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心落下帷幕！苏州华兴源创科技股份有限公司副总裁姚夏先生出席开幕式现场。 作为国内显示检测领域的领先企业，华兴源创携多项创新成果重磅亮相，集中展示了在光电、智能穿戴、半导体等测试领域的最新成果，并首次展示了AI DeMura技术、光频梳技术等多项创新突破。同时，展示了智能手机/手表自动化
8月28日，全球新型显示产业高度瞩目的年度盛会——DIC EXPO 2026显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心落下帷幕！苏州华兴源创科技股份有限公司副总裁姚夏先生出席开幕式现场。
作为国内显示检测领域的领先企业，华兴源创携多项创新成果重磅亮相，集中展示了在光电、智能穿戴、半导体等测试领域的最新成果，并首次展示了AI DeMura技术、光频梳技术等多项创新突破。同时，展示了智能手机/手表自动化解决方案及LIBS解决方案，全方位展现了显示检测领域的综合技术实力。
中国光学光电子行业协会液晶分会理事长陈炎顺先生，中国光学光电子行业协会液晶分会常务副理事长/秘书长梁新清先生，京东方科技集团股份有限公司CEO冯强先生，京东方科技集团股份有限公司高级副总裁/首席技术官/首席产品官刘志强先生等一行嘉宾莅临华兴源创展台进行参观指导，华兴源创副总裁姚夏先生接待。
AI DeMura&光频梳技术展会首秀
2026 DIC EXPOAI DeMura技术：今年展会，华兴源创展台首次展示了AI Demura技术，该技术与BOE联合开发并已完成技术Demo验证，在亮度、色度一致性表现上均稳定领先于传统DeMura算法，可有效提升产品良率。
在实际量产场景中，客户现场每年有上百个新机种投入量产，传统模式下每个机种至少需要2到4名算法工程师花费3到5天进行调试和参数适配，而AI DeMura实现了新机种配置的完全无人化导入，解决了研发阶段反复调参与前后处理适配的痛点。
光频率梳技术：此次展会，华兴源创首次面向工业场景展出光频率梳技术，公司已率先完成从基础物理到工程化量产的跨越，成功将该技术转化为3D超精密检测系统。
该技术专为复杂曲面、深腔结构及大尺度工件设计，突破传统干涉仪的量程－精度瓶颈：最大测量深度达100 mm，可穿透深孔、凹槽等隐蔽区域；最远工作距离100 m，满足超大部件远距检测；Z轴纵向分辨率稳定达到1 μm，实现微米级高度还原。
光、电、半导体全矩阵产品悉数登场
2026 DIC EXPO除了两项首秀技术，华兴源创延续了往届展品的强大阵容。
光电展区，动态展示了点式色彩分析仪、多角度光谱仪、面阵式色度计等多款自主研发的颜色测量仪器，以及集三项功能于一体的光学三合一测试平台，可实现单点色度亮度检测、GAMMA调整、多视角色差检测、屏幕颜色均匀性及Black Mura检测等全功能。今年更全新推出AR眼镜双目检测设备解决方案，以及高速·高动态范围TEG/PMPD显示材料色彩分析技术，进一步拓展了公司在AR近眼显示和前沿材料检测领域的技术布局。
信号发生器（PG）展区同样亮点频出，展品覆盖Cell PG、Module PG及Aging PG全系列解决方案，满足从面板到模组各制程的测试需求。半导体展区展示了PXIe系列测试系统，信赖性展区则带来了两款明星产品，展现了公司在产品可靠性测试方面的深厚积累。
声学与气密性测试设备
2026 DIC EXPO此次展会上，华兴欧立通作为华兴源创旗下智能穿戴测试领域的核心力量，也带来了多款重磅产品。马达模组噪声测试设备、气密性测试设备以及透声膜声损失测试治具集中展出，覆盖智能穿戴产品从声学性能到气密性到精密组装的全流程测试需求。
其中，马达模组噪声测试设备，自主研发的振动马达自动测试方案曾先后入选江苏省“三首两新”技术产品名单和苏锡常首台（套）重大装备认定，可将作业噪声降低至55dB以下并缩短CT时间，已在全球智能穿戴代工龙头企业成功应用。
非标自动化全链路解决方案
2026 DIC EXPO此外，本届展会华兴源创还首次集中展示了智能手机及智能手表自动化解决方案以及LIBS解决方案，展示了公司在非标自动化解决方案的能力以及材料分析领域的技术突破。
未来，华兴源创将在新型显示检测领域持续技术创新，为全球显示产业的高质量发展贡献更多力量。我们明年再见！
8月28日，全球新型显示产业高度瞩目的年度盛会——DIC EXPO 2026显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心落下帷幕！苏州华兴源创科技股份有限公司副总裁姚夏先生出席开幕式现场。 作为国内显示检测领域的领先企业，华兴源创携多项创新成果重磅亮相，集中展示了在光电、智能穿戴、半导体等测试领域的最新成果，并首次展示了AI DeMura技术、光频梳技术等多项创新突破。同时，展示了智能手机/手表自动化
8月28日，全球新型显示产业高度瞩目的年度盛会——DIC EXPO 2026显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心落下帷幕！苏州华兴源创科技股份有限公司副总裁姚夏先生出席开幕式现场。
作为国内显示检测领域的领先企业，华兴源创携多项创新成果重磅亮相，集中展示了在光电、智能穿戴、半导体等测试领域的最新成果，并首次展示了AI DeMura技术、光频梳技术等多项创新突破。同时，展示了智能手机/手表自动化解决方案及LIBS解决方案，全方位展现了显示检测领域的综合技术实力。
中国光学光电子行业协会液晶分会理事长陈炎顺先生，中国光学光电子行业协会液晶分会常务副理事长/秘书长梁新清先生，京东方科技集团股份有限公司CEO冯强先生，京东方科技集团股份有限公司高级副总裁/首席技术官/首席产品官刘志强先生等一行嘉宾莅临华兴源创展台进行参观指导，华兴源创副总裁姚夏先生接待。
AI DeMura&光频梳技术展会首秀
2026 DIC EXPOAI DeMura技术：今年展会，华兴源创展台首次展示了AI Demura技术，该技术与BOE联合开发并已完成技术Demo验证，在亮度、色度一致性表现上均稳定领先于传统DeMura算法，可有效提升产品良率。
在实际量产场景中，客户现场每年有上百个新机种投入量产，传统模式下每个机种至少需要2到4名算法工程师花费3到5天进行调试和参数适配，而AI DeMura实现了新机种配置的完全无人化导入，解决了研发阶段反复调参与前后处理适配的痛点。
光频率梳技术：此次展会，华兴源创首次面向工业场景展出光频率梳技术，公司已率先完成从基础物理到工程化量产的跨越，成功将该技术转化为3D超精密检测系统。
该技术专为复杂曲面、深腔结构及大尺度工件设计，突破传统干涉仪的量程－精度瓶颈：最大测量深度达100 mm，可穿透深孔、凹槽等隐蔽区域；最远工作距离100 m，满足超大部件远距检测；Z轴纵向分辨率稳定达到1 μm，实现微米级高度还原。
光、电、半导体全矩阵产品悉数登场
2026 DIC EXPO除了两项首秀技术，华兴源创延续了往届展品的强大阵容。
光电展区，动态展示了点式色彩分析仪、多角度光谱仪、面阵式色度计等多款自主研发的颜色测量仪器，以及集三项功能于一体的光学三合一测试平台，可实现单点色度亮度检测、GAMMA调整、多视角色差检测、屏幕颜色均匀性及Black Mura检测等全功能。今年更全新推出AR眼镜双目检测设备解决方案，以及高速·高动态范围TEG/PMPD显示材料色彩分析技术，进一步拓展了公司在AR近眼显示和前沿材料检测领域的技术布局。
信号发生器（PG）展区同样亮点频出，展品覆盖Cell PG、Module PG及Aging PG全系列解决方案，满足从面板到模组各制程的测试需求。半导体展区展示了PXIe系列测试系统，信赖性展区则带来了两款明星产品，展现了公司在产品可靠性测试方面的深厚积累。
声学与气密性测试设备
2026 DIC EXPO此次展会上，华兴欧立通作为华兴源创旗下智能穿戴测试领域的核心力量，也带来了多款重磅产品。马达模组噪声测试设备、气密性测试设备以及透声膜声损失测试治具集中展出，覆盖智能穿戴产品从声学性能到气密性到精密组装的全流程测试需求。
其中，马达模组噪声测试设备，自主研发的振动马达自动测试方案曾先后入选江苏省“三首两新”技术产品名单和苏锡常首台（套）重大装备认定，可将作业噪声降低至55dB以下并缩短CT时间，已在全球智能穿戴代工龙头企业成功应用。
非标自动化全链路解决方案
2026 DIC EXPO此外，本届展会华兴源创还首次集中展示了智能手机及智能手表自动化解决方案以及LIBS解决方案，展示了公司在非标自动化解决方案的能力以及材料分析领域的技术突破。
未来，华兴源创将在新型显示检测领域持续技术创新，为全球显示产业的高质量发展贡献更多力量。我们明年再见！
